1493
จุ
ลทรรศน
อิ
เล็
กตรอนแบบส
องกราดแสดงให
เห็
นถึ
งพื้
นผิ
วที่
เรี
ยบขึ้
นหลั
งจากใช
เครื่
องมื
อขู
ดเที
ยบกั
บกลุ
มควบคุ
ม
ซึ่
งมี
เศษเรซิ
นคอมโพสิ
ตที่
เกิ
ดจากการขั
ดปกคลุ
มพื้
นผิ
วโดยทั่
วไปอย
างหลวมๆ
ซี
เมนต
ชั่
วคราวอาจจะไปผนึ
กชิ้
น
ส
วนเล็
กๆไว
ด
วยกั
นซึ่
งจะติ
ดไปกั
บซี
เมนต
หลั
งจากขู
ด ดั
งนั้
นสภาพพื้
นผิ
วที่
ปรากฏจึ
งดู
สะอาดขึ้
น ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ด
เฉลี่
ยของกลุ
มที่
ใช
เครื่
องมื
อขู
ดถึ
งแม
จะไม
แตกต
างกั
บกลุ
มควบคุ
มอย
างมี
นั
ยสํ
าคั
ญทางสถิ
ติ
แต
มี
แนวโน
มสู
งขึ้
นใน
กลุ
มของซี
เมนต
Panavia F2.0 และ RelyX Unicem การศึ
กษาในอดี
ตส
วนใหญ
ทํ
าบนผิ
วฟ
น ลั
กษณะทางกายภาพ
ของผิ
วเนื้
อฟ
นจะประกอบด
วยท
อเนื้
อฟ
นซึ่
งอาจจะมี
ส
วนในการทํ
าให
ซี
เมนต
ชั่
วคราวตกค
างมากกว
าบนผิ
วเรซิ
น
คอมโพสิ
ต ผลการศึ
กษาจึ
งแสดงให
เห็
นถึ
งการลดลงของค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดหลั
งจากสั
มผั
สกั
บซี
เมนต
ชั่
วคราว อย
างไรก็
ตามยั
งมี
บางการศึ
กษาที
่
แสดงผลเช
นเดี
ยวกั
บการทดลองนี้
คื
อ พบว
าซี
เมนต
ชั่
วคราวชนิ
ดที่
มี
และไม
มี
ยู
จี
นอลไม
ส
งผล
ต
อการยึ
ดติ
ดของเรซิ
นซี
เมนต
แต
การศึ
กษาเหล
านี้
ทํ
าบนผิ
วฟ
น (Schwartz RS
et.al,
1998 และ Davis ST และ
O’Connell BC,2007)
การยึ
ดชิ้
นเรซิ
นคอมโพสิ
ตด
วยเรซิ
นซี
เมนต
Variolink II ให
ค
าเฉลี่
ยกํ
าลั
งแรงยึ
ดสู
งสุ
ดเกื
อบทุ
กกลุ
มทดลอง
และค
าที่
ได
จากทั้
ง 4 วิ
ธี
ทํ
าความสะอาดมี
ค
าไม
แตกต
างกั
น Variolink II เป
นเรซิ
นซี
เมนต
ระบบกรดกั
ดและล
าง ต
อง
ใช
กรดฟอสฟอริ
กความเข
มข
น 37 เปอร
เซ็
นต
กั
ดเพื่
อเตรี
ยมพื้
นผิ
วที่
จะยึ
ด การใช
กรดฟอสฟอริ
กกั
ดบนผิ
ว เรซิ
นคอม
โพสิ
ตเป
นการทํ
าความสะอาดและกํ
าจั
ดเศษต
างๆบนพื้
นผิ
วออกทํ
าให
เกิ
ดการยึ
ดอยู
ที่
ดี
ขึ้
น (Hummel SK
et.al,
1997)
ในการทดลองนี้
เรซิ
นคอมโพสิ
ตทุ
กชิ้
น ไม
ว
าจะผ
านการทํ
าความสะอาดด
วยวิ
ธี
ใด จะต
องถู
กเตรี
ยมผิ
วด
วยกรด
ฟอสฟอริ
กอี
กครั้
งก
อนยึ
ดด
วยซี
เมนต
ดั
งนั้
นค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดที่
ได
จาก 4 กลุ
มวิ
ธี
การทํ
าความสะอาดจึ
งไม
แตกต
างกั
น
นอกเหนื
อจากนี้
ในระบบของซี
เมนต
Variolink II มี
การทาสารยึ
ดติ
ด (adhesive) ด
วยในขณะที่
ซี
เมนต
อี
ก 2 ระบบไม
มี
สารยึ
ดติ
ด การทาสารยึ
ดติ
ดที่
เป
นเรซิ
นความหนื
ดต่ํ
าสามารถช
วยเพิ่
มการไหลแผ
ไปบนพื้
นผิ
วและทํ
าให
เกิ
ดการยึ
ด
ที่
ดี
ได
ในกลุ
มของเรซิ
นคอมโพสิ
ตที่
ยึ
ดด
วยซี
เมนต
Panavia F2.0 พบว
าการทํ
าความสะอาดโดยการขั
ดด
วยพั
มมิ
ซ
ให
ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดสู
งสุ
ด และสู
งกว
ากลุ
มควบคุ
มและกลุ
มที่
กั
ดด
วยกรดฟอสฟอริ
กอย
างมี
นั
ยสํ
าคั
ญทางสถิ
ติ
ซี
เมนต
Panavia F2.0 เป
นเรซิ
นซี
เมนต
ระบบเซลฟ
เอช ใช
ED Primer ซึ่
งเป
นเรซิ
นมอนอเมอร
ที่
มี
ฤทธิ์
เป
นกรดทาผิ
วฟ
นก
อน
โดยไม
ต
องล
างออก แล
วจึ
งยึ
ดด
วยเรซิ
น การใช
เซลฟ
เอชมอนอเมอร
บนผิ
วฟ
นจะช
วยลดการกั
ดที่
ลึ
กเกิ
นไปของกรด
ฟอสฟอริ
ก ซึ่
งลดการเสี
ยวฟ
นได
(Tay FR และ Pashley DH,2003) แต
การทาไพรเมอร
แบบไม
ล
างบนผิ
วเรซิ
น คอม
โพสิ
ตไม
สามารถกํ
าจั
ดเศษเรซิ
นที่
อยู
บนผิ
วฟ
น
และอาจเป
นสาเหตุ
ให
ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดต่ํ
าในกลุ
มควบคุ
ม
การขั
ด
ด
วยพั
มมิ
ซเป
นการขั
ดผิ
วเดิ
มออก ซึ่
งภาพจากกล
องจุ
ลทรรศน
อิ
เล็
กตรอนชนิ
ดส
องกราดแสดงให
เห็
นว
าร
องที่
เกิ
ดจาก
การขั
ดด
วยกระดาษซิ
ลิ
คอนคาร
ไบด
หายไป และเกิ
ดพื้
นผิ
วใหม
ที่
สะอาด เห็
นวั
สดุ
อั
ดแทรกอย
างชั
ดเจน วิ
ธี
การขั
ดจึ
ง
ทํ
าให
ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดสู
งขึ้
น อย
างไรก็
ตาม พบว
าการใช
กรดฟอสฟอริ
กกั
ด ก
อนจะยึ
ดด
วยซี
เมนต
Panavia F2.0 กลั
บ
ทํ
าให
ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดลงลงอย
างมาก ต่ํ
ากว
ากลุ
มอื่
นๆอย
างมี
นั
ยสํ
าคั
ญทางสถิ
ติ
ซึ่
งสาเหตุ
ยั
งไม
ทราบแน
ชั
ด กรดฟอส
ฟอริ
กซึ่
งเป
นเจลอาจหลงเหลื
ออยู
และส
งเสริ
มสภาวะความเป
นกรดของ ED Primer ในขั้
นตอนการทดลองมี
การเก็
บ
ชิ้
นเรซิ
นคอมโพสิ
ตในน้ํ
าก
อนทดสอบเป
นเวลา 7 วั
น ค
าความเป
นกรดที่
สู
งอาจส
งเสริ
มให
น้ํ
าแทรกซึ
มเข
ามาตามรอย
ยึ
ดส
งผลให
ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดลดลง (Ikeda M
et.al,
2009)
ในกลุ
มที่
ยึ
ดด
วยเรซิ
นซี
เมนต
ระบบเซลฟ
แอดฮี
ซี
ฟ RelyX Unicem ค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดไม
แตกต
างกั
นระหว
าง 4
กลุ
มทดสอบ และค
ากํ
าลั
งแรงยึ
ดที่
ได
จากซี
เมนต
กลุ
มนี้
ไม
แตกต
างจากกลุ
มที่
ยึ
ดด
วยซี
เมนต
Variolink II อย
างมี
นั
ยสํ
าคั
ญทางสถิ
ติ
ถึ
งแม
ไม
มี
การเตรี
ยมพื้
นผิ
วด
วยกรดหรื
อไพรเมอร
อาจเกิ
ดจากความหนื
ดที่
ต่ํ
ากว
าของเรซิ
นซี
เมนต