full2012.pdf - page 365

„µ¦…¹
Ê
œ¨µ¥Áo
œœÎ
µÅ¢¢o
µ—o
ª¥ª·
›¸
„µ¦¡·
¤¡r
°·
Š‡r
Á‹È
š¦n
ª¤„´
ª·
›¸
°·
Á¨È
„ئÁ¡¨š˜·
Ê
Š
Conductive Copper Lines Patterned by Combination of Inkjet Printing and Electroplating
วนิ
ดา ตั
นย้
1*
และสุ
รเทพ เขี
ยวหอม
2
Wanida Tunyong
1*
and Soorathep Keawhom
2
š‡´
—¥n
°
ในงานวิ
จั
ยนี
ได้
ศึ
กษาเทคนิ
คการสร้
างเส้
นนํ
าไฟฟ้
าร่
วมกั
นระหว่
างวิ
ธี
การพิ
มพ์
แบบอิ
งค์
เจ็
ท และวิ
ธี
อิ
เล็
กโตร
เพลทติ
ง จะเริ่
มทํ
าการพิ
มพ์
หมึ
กนํ
าไฟฟ้
าที่
มี
อนุ
ภาคนาโนของเงิ
นที่
ความเข้
มข้
น 15% 25% และ 35% ด้
วยเครื่
องพิ
มพ์
แบบอิ
งค์
เจ็
ทบนผิ
วของโพลี
เอทิ
ลี
นเทอพาทาเลท (PET) ที่
ความเข้
มข้
น 15% 25% และ35% ของนํ
าหมึ
ก แล้
วนํ
าไปอบ
ที่
อุ
ณหภู
มิ
150
องศาเซลเซี
ยส เป็
นเวลา 30 นาที
ศึ
กษาผลของความเข้
มข้
นในหมึ
กนํ
าไฟฟ้
า จากนั
นนํ
าแผ่
นฟิ
ล์
มที่
ได้
ไป
ทํ
าการอิ
เล็
กโตรเพลทติ
งทองแดงที่
ด้
านบนของเส้
นเงิ
นนํ
าไฟฟ้
า โดยศึ
กษาความต่
างศั
กย์
ไฟฟ้
าและเวลาในการทํ
เพลทติ
ง พบว่
า สภาวะที่
เหมาะสมให้
สภาพความต้
านทานไฟฟ้
า 1.77
ไมโครโอห์
มเซนติ
เมตรที่
ความต่
างศั
กย์
1.0 โวลต์
และเวลา 10 นาที
เครื่
องมื
อที่
ใช้
ในงานการศึ
กษานี
คื
อ เครื่
องวั
ดค่
าความต้
านทานไฟฟ้
าแบบโพรบสองเข็
ม(two-point
probe) กล้
องจุ
ลทรรศน์
อิ
เล็
กตรอนแบบส่
องกราด(SEM)
เครื่
องวิ
เคราะห์
การเลี
ยวเบนของรั
งสี
เอกซ์
(XRD) และกล้
อง
จุ
ลทรรศน์
แรงอะตอม (AFM) เพื่
อศึ
กษาสภาพความต้
านทานไฟฟ้
า ลั
กษณะโครงสร้
างพื
นผิ
วและโครงสร้
างผลึ
‡Î
µÎ
µ‡´
:
การพิ
มพ์
แบบอิ
งค์
เจ็
ท อิ
เล็
กโตรเพลทติ
ง เส้
นนํ
าไฟฟ้
Abstract
In this work, we investigated a technique to fabricate conductive lines using a technique combining between
ink-jet printing and electroplating. The conductive lines of silver nanoparticle ink with 15%, 25%, and 35%
of silver loading were deposited by drop-on-demand piezo inkjet on Polyethylene terephthalate (PET) substrate. Then,
heat treatment at 150
o
C for 30 min was performed. Electroplating was carried out to form a copper layer on top of
the silver pattern previously printed. We investigated the effects of metal content in silver nanoparticle ink. Moreover,
the effect of voltage and immersion time applied in electroplating process was also studied.
1.77 µ
ȍ
.cm is the resistivity
obtained by optimal plating process at 1.0 V and 10 min of plating time. The conductive lines were characterized by
a two-point probe, scanning electron microscope, x
-
ray diffractrometer (XRD)
and atomic force microscopy (AFM)
to confirm the electrical conductivity, microstructure, crystal structure, shape and surface property.
Keywords:
Inkjet printing, Electroplating, Conductive line
1
นิ
สิ
ตปริ
ญญาโท สาขาวิ
ศวกรรมเคมี
คณะวิ
ศวกรรมศาสตร์
จุ
ฬาลงกรณ์
มหาวิ
ทยาลั
ย กรุ
งเทพฯ 10330
2
อาจารย์
ภาควิ
ชาวิ
ศวกรรมเคมี
คณะวิ
ศวกรรมศาสตร์
จุ
ฬาลงกรณ์
มหาวิ
ทยาลั
ย กรุ
งทพฯ 10330
*Corresponding author : E-mail:
365
การประชุ
มวิ
ชาการระดั
บชาติ
มหาวิ
ทยาลั
ยทั
กษิ
ณ ครั้
งที่
22 ประจำปี
2555
1...,355,356,357,358,359,360,361,362,363,364 366,367,368,369,370,371,372,373,374,375,...1917
Powered by FlippingBook