µ¦¦³»
¤ª·
µµ¦Â¨³Á°¨µª·
´
¥¤®µª·
¥µ¨´
¥´
¬·
¦´Ê
¸É
19 ¦³Î
µe
2552
2
Î
µÎ
µ
¢d
¨r
¤µÅµÁ¸
¥¤Å°°År
(TiO
2
) Á}
¢d
¨r
¤µ·
®¹É
¸É
Î
µ¨´
Åo
¦´
ªµ¤Ä°¥n
µªo
µ
ªµÄ
µ¦«¹
¬µª·
´
¥Ä{
»
´
缃
°µ¤¸
¤´
·
n
µÄ®¨µ¥¦³µ¦ Án
¤¸
n
µµ¦n
n
µÂ¼
Än
ª¸É
µ¤°Á®È
µ¦´
¦n
°
°µ¦Á¤¸
°»
®£¼
¤·
¼
¨³µ¦
´
¸
Åo
¸
(Ritter, 1975 ; Pulker, 1984) ¤¸
n
µ´
¸
®´
Á®¼
(n = 2.55 Î
µ®¦´
°µÁ¨³ n = 2.7 Î
µ®¦´
¦¼
Ũr
) Á}
µ¦¹É
´
ªÎ
µ¸É
¤¸
¡¨´
µªo
µ (3.18 eV) Î
µ®¦´
°µÁ¨³ 3.03 eV Î
µ®¦´
¦¼
Ũr
) (Li
et al
., 2000) Î
µÄ®o
¤¸
µ¦Î
µÅ¦³¥»
r
Äo
Ä®¨µ¥o
µÁn
Äo
Á}
´
ªÁ¦n
·
·
¦·
¥µ (catalysis), âó³Å¨·
(photocatalytic) ¦ª¤¹
Äo
Á}
n
ª¦³°
°Á¨¨r
»
¦·
¥³ (solar cell)
(Kim
et al
., 1990
;
Babelo
n et al.
, 1998)
ŵÁ¸
¥¤Å°°År
Ħ¦¤µ·
¤¸
3 碼
° °µÁ (anatase) ¦¼
Ũr
(rutile) ¨³¦¼
År
(brookite)
Ã¥Á¢°µÁ¨³Á¢¦¼
Ũr
³¤¸
æ¦o
µ¨¹
Á}
ÂÁ¦³Ã´
¨ (tetragonal) n
ªÁ¢¦¼
År
¤¸
æ¦o
µ
¨¹
°°¦°¦°¤·
(orthorhombic) ·
³Å¤n
¡Á¢¦¼
År
³¡Á¡¸
¥ °µÁ ¦¼
Ũr
¨³°´
µ
(amorphous) Án
µ´Ê
(Löbl
et al
.,
1994) µ¦Á¦¸
¥¤¢d
¨r
¤ÅµÁ¸
¥¤Å°°År
µ¤µ¦Á¦¸
¥¤Åo
®¨µ¥ª·
¸
´Ê
µ
¦³ªµ¦µ¢d
·
r
(physical vapor deposition) Án
ª·
¸
¦³Á®¥µ¦ (evaporation), °µ¦r
Á°¢ {
Á°¦·
(RF sputtering), ¸
¸
{
Á°¦·
(DC sputtering) ¨³ ¦³ªµ¦µÁ¤¸
(chemical vapor deposition) ®¦º
°
ª·
¸
èÁ¨ (sol gel) Á}
o
°¥n
µÅ¦È
¸
µ¦Á¦¸
¥¤¢d
¨r
¤µo
ª¥Á·
{
Á°¦·
¤¸
o
°Åo
Á¦¸
¥¸É
µ¤µ¦ª»
¤
°´
¦µÁ¨º
° ¨³¤´
·
°¢d
¨r
¤µÅo
n
µ¥ (Zhao
et al
.,
2005) ¢d
¨r
¤¸É
Åo
¹
¤¸
»
£µ¡Â¨³¤¸
µ¦¥¹
Áµ³¸
(Wu
et al.,
2006) ´Ê
¥´
µ¤µ¦¦³¥»
r
żn
µ¦Á¨º
°·Ê
µ
µÄ®n
Ħ³´
°»
µ®¦¦¤Åo
n
µ¥°¸
o
ª¥
ŵÁ¸
¥¤Å°°År
¤¸
¤´
·
¸É
Î
µ´
°¥n
µ®¹É
º
° ¤´
·
űæ¢d
¨·
¹É
¢¼
·
·
¤µÂ¨³±°µ Á}
´
ª·
´
¥
¨»n
¤Â¦¸É
o
¡¤´
·
¸Ê
(Fujishima and Honda, 1972) n
°¤µ¢¼
·
·
¤µÂ¨³³ ¡¦µµ¦r
âó³Å¨·
Á°¦·
ŦÁ´É
(photocatalytic sterilization) ¨³Å±Ã¦¢d
¨·
¥·É
¥ª (super-hydrophilic)
°ÅµÁ¸
¥¤Å°°År
Á¤ºÉ
°´
¤´
 (Fujishima
et al.
,
2000) Î
µÄ®o
¤¸
µ¦ª·
´
¥Â¨³¡´
µÁ¡ºÉ
°¦³¥»
r
Äo
ŵÁ¸
¥¤Å°°År
Äo
µ
n
µÇ °¥n
µªo
µ
ªµÃ¥Á¡µ³°¥n
µ¥·É
¦³Î
µªµ¤³°µ´
ªÁ° (self-cleaning glass)
¦³Î
µªµ¤³°µ´
ªÁ° Á}
¦³¸É
Î
µªµ¤³°µÅo
n
µ¥Áº
°Å¤n
o
°Î
µªµ¤³°µ¦³Á¨¥
®¨´
µ¦Î
µµ
°¦³·
¸Ê
°·
杏o
´
¸Ê
Á¤ºÉ
°·
ª®o
µ
°¦³´
¤´
°µ·
¥r
¦´
¸
°´
¨¦µÅªÃ°Á¨
°Â°µ·
¥r
³¦³»o
Įo
äÁ¨»
¨
°ÊÎ
µ¸É
°¥¼n
¦°¦³Á·
·
·
¦·
¥µ¨µ¥Á}
®¤¼n
ű¦°·
¨ (hydroxyl, OH
-
)
¹É
Á}
´
ª°°·
År
µ¦°·
¦¸
¥r
¸É
¸
Î
µÄ®o
äÁ¨»
¨
°·É
¦¸É
Áµ³·
ª¦³Â´
ªÁ}
äÁ¨»
¨Á¨È
¨³
¦³Á®¥®¨»
µ·
ª¦³
³Á¸
¥ª´
È
³¦´
¤´
·
Á·
·
ª
°¦³Ä®o
¤¸
£µ¡°ÊÎ
µ ®¦º
°Å±Ã¦¢d
¨·
Á¤ºÉ
°Äo
ÊÎ
µ¸
®¦º
°¦µÅ¦³ ÊÎ
µ³Å¤n
´
´
ªÁ}
®¥Ân
³¤¸
¨´
¬³Á}
´Ê
°ÊÎ
µµÇ Î
µ¦³·É
¦
·
ª®o
µ¦³Ä®o
Å®¨¨¤µo
ª¥Â¦Ão
¤n
ªÃ¨
ªµ¤ª·
´
¥¸Ê
Á}
¦µ¥µ¨µ¦Á¦¸
¥¤¢d
¨r
¤µÅµÁ¸
¥¤Å°°År
o
ª¥Á·
¦¸
°¸
¢ ¸
¸
¤¸
¦° {
Á°¦·
(reactive DC magnetron sputtering ) Ã¥Áo
µ¦«¹
¬µ¹
¨
°ªµ¤´
¦ª¤
³Á¨º
°
¸É
¤¸
n
°Ã¦¦o
µ¨¹
¨´
¬³¡ºÊ
·
ª ¨³¤´
·
âó³Å¨·
°¢d
¨r
¤µÅµÁ¸
¥¤Å°°År
¸É
笼
°Åo
Î
µ®¦´
Á}
o
°¤¼
¨¡ºÊ
µÄµ¦ª·
´
¥n
°Å