full2012.pdf - page 406

„µ¦Á˜¦¸¥¤¢· ¨r¤µŠÅšÁšÁœ¸¥¤Å—°°„ÅŽ—r Î µ®¦´‰n µÁº ʰ‡š¸Á¦¸¥Ã—¥„µ¦Œµ¥ÂŠ
Preparation of Titanium Dioxide Thin Films for Photokilling of Bacteria
รัติกาล มานพ 1,7 สุรี ย์ ทองวณิ ชนิยม2 วิเชียร ศิ ริ พรม3,7 อดิศร บูรณวงศ์4,7 สุ รสิ งห์ ไชยคุณ5,7
และ นิ รันดร์ วิทิ ตอนันต์6,7*
Rattikarn Manop1,7, Suree Tongwanichniyom2, Wichian Siriprom3,7, Adisorn Buranawong4,7, Surasing Chaiyakun5,7
and Nirun Witit-anun6,7*
š‡´—¥n°
ฟิ ล์มบางไทเทเนี ยมไดออกไซด์เคลื อบบนแผ่นซิ ลิ กอนและกระจกด้วยวิธีรี แอคตี ฟดีซีแมกนีตรอนสปั ตเตอริ ง
ที่อัตราไหลแก๊สออกซิ เจนต่างๆ ศึ กษาโครงสร้างผลึกด้วยเทคนิค XRD ความหนาและลักษณะพื้นผิวด้วยเทคนิค AFM
และความสามารถในการฆ่ าเชื้ อแบคที เรี ยโดยการฉายแสงยูวี ผลการวิเคราะห์ ด้วย XRD พบว่าฟิ ล์มมีโครงสร้าง
แบบพหุผลึกเฟสของฟิ ล์มเปลี่ยนจาก รู ไทล์ เป็ นอนาเทสผสมรูไทล์ และ อนาเทส เมื่ออัตราไหลแก๊ สออกซิเจนเพิ่มขึ้ น
ผลจาก AFM พบว่าความหนาฟิ ล์มลดลงจาก 171 nm เป็ น 136 nm ส่ วนความหยาบผิวเพิ่มขึ้นจาก 2.00 nm เป็ น 5.42 nm
เมื่ออัตราไหลแก๊สออกซิ เจนเพิ่มขึ้ น ฟิ ล์มบางไทเทเนียมไดออกไซด์ที่ได้สามารถฆ่าเชื้ อแบคทีเรี ยเมื่อสัมผัสแสงยูวีได้
‡ÎµÎ µ‡´: ฟิ ล์มบางไทเทเนียมไดออกไซด์ รีแอคตีฟดีซี แมกนีตรอนสปัตเตอริ ง การฆ่ าเชื้ อแบคทีเรี ยโดยการฉายแสง
Abstract
Titanium dioxide thin films have been deposited on Si-wafer and glass slide by reactive DC magnetron
sputtering method at different oxygen gas flow rate. The crystal structure was characterized by XRD, surface
morphology was analyzed by AFM and disinfection of surfaces by photo catalytic oxidation with titanium dioxide and
UV light irradiation. The results shown that, from XRD results, all films have polycrystalline structure and change
from rutile, mixed of anatase/rutile and anatase as oxygen gas flow rate increases. AFM results show that the film
thickness decrease form 171 nm to 136 nm, while the roughness increase form 2.00 nm to 5.42 nm with increasing of
oxygen gas flow rate. The titanium dioxide film can kill the bacteria when expose to the UV light.
Keywords: Titanium dioxide thin films, Reactive DC magnetron sputtering, Photokilling of bacteria
1 นิ สิตปริญญาโท สาขาฟิ สิ กส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา ชลบุรี 20131
2 อ., คณะวิ ทยาศาสตร์ ศรี ราชา มหาวิทยาลัยเกษตรศาสตร์ วิทยาเขตศรีราชา ชลบุรี 20230
3 อ.ดร., คณะวิ ทยาศาสตร์ ศรี ราชา มหาวิทยาลัยเกษตรศาสตร์ วิทยาเขตศรีราชา ชลบุรี 20230
4 อ.ดร., ห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิ ล์มบาง ภาควิชาฟิ สิกส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา ชลบุรี 20131
5 รศ.ดร., ห้ องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุ ญญากาศและฟิ ล์มบาง ภาควิชาฟิ สิกส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิ ทยาลัยบูรพา ชลบุรี 20131
6 ผศ.ดร., ห้องปฏิบัติการวิจัยพลาสมาสําหรับวิทยาศาสตร์พื้ นผิว ภาควิชาฟิ สิกส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิ ทยาลัยบูรพา ชลบุรี 20131
7 ศูนย์ความเป็ นเลิศด้านฟิ สิกส์ (ThEP) สํานักพัฒนาบัณฑิตศึ กษาและวิจัยด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี สกอ. ศธ. กรุงเทพฯ
Corresponding author: e-mail: nirun@buu.ac.th Tel. 03-810-3084
406
การประชุมวิชาการระดับชาติ มหาวิ ทยาลัยทักษิณ ครั้งที่ 22 ประจำปี 2555