full2012.pdf - page 413

¦» žŸ¨„µ¦ª·‹´¥
ฟิ ล์มบางไทเทเนี ยมไดออกไซด์ เคลือบด้วยวิธี รี แอคตี ฟดีซี แมกนี ตรอนสปั ตเตอริ งเมื่ อแปรค่ าอัตราไหล
แก๊สออกซิเจนในช่ วง 2 sccm ถึง 6 sccm พบว่าฟิ ล์มที่ได้มีโครงสร้างแบบพหุผลึก เมื่ ออัตราไหลแก๊สออกซิเจนเพิ่มขึ้ น
เฟสของฟิ ล์มที่เคลือบได้ เปลี่ ยนจาก รูไทล์ เป็ นอนาเทสผสมรู ไทล์ และ อนาเทส ขณะที่ ความหนาฟิ ล์มลดลงจาก
171 nm เป็ น 136 nm ส่ วนความหยาบผิวฟิ ล์มเพิ่มขึ้ นจาก 2.00 nm เป็ น 5.42 nm เมื่อนําฟิ ล์มบางไทเทเนี ยมไดออกไซด์
เฟสอนาเทสที่เคลือบบนกระจกไปทดสอบการฆ่ าเชื้อแบคที เรีย พบว่ากระจกที่ เคลือบฟิ ล์มมีความสามารถในการฆ่า
เชื้อ E.coli หลังการฉายรั บแสงยูวีดี กว่ากระจกที่ไม่เคลือบฟิ ล์ม โดยพบว่าเชื้ อ E.coli บนกระจกเคลือบฟิ ล์มตายหมด
หลังการฉายรับแสงยูวีในเวลา 15 นาที ขณะที่กระจกที่ ไม่เคลือบฟิ ล์มต้องใช้เวลาถึง 20 นาที เชื้ อ E.coli บนกระจก
จึงตายทั้ งหมด
‡Îµ °‡»–
บทความวิจั ยนี้ เป็ นส่วนหนึ่ งของโครงการวิ จัยเรื่ อง “การเตรียมและศึ กษาลั กษณะเฉพาะของฟิ ล์มบาง
ไทเทเนียมออกไซด์ (TiO2) สําหรับประยุกต์ใช้ฆ่าเชื้ อ” ในแผนงานวิจัย “การปรับปรุ งผิววัสดุด้วยเทคนิคการเคลือบ
ฟิ ล์มบางนาโนสําหรับอุตสาหกรรมในประเทศไทย” ซึ่ งได้รับทุนอุดหนุนการวิจัยจาก สํ านักงานคณะกรรมการวิจัย
แห่งชาติ (วช.) ประจําปี งบประมาณ 2555 (15 กลุ่มเรื่ องเร่ งด่วน)
Á°„µ¦°oµŠ°·Š
Babelon, P., Dequiedt, A.S., Mostéfa-Sba, H., Bourgeois, S., Sibillot, P. and Sacilotti, M. (1998). “SEM and XPS
studies of titanium dioxide thin films grown by MOCVD”, Thin Solid Films. 322: 63-67.
Li, G.H., Yang, L., Jin, Y.X., and Zhang, L.D. (2000). “Structural and optical properties of TiO2 Thin film and TiO2 +
2 wt.% ZnFe2O4 composite film prepared by r.f. sputtering”,. Thin Solid Films. 368: 163-167.
Löbl, P., Huppertz, M. and Mergel D. (1994). “Nucleation and growth in TiO2 films prepared by sputtering and
evaporation”, Thin Solid Films. 251, 72-79.
Pulker, H.K. (1981). “Coatings on glass substrates”, Thin Solid Films. 77, 203-212.
Ritter, E. (1975), “Dielectric film materials for optical applications”, Physics of thin films. New York: Academic
Press, 1-49
Sunada, K., Watanabe, T. and Hashimoto, (2003). “Studies on photokilling of bacteria on TiO2 thin film”, Journal of
Photochemistry and Photobiology. 156: 227-233.
Wu, K.R., Wang, J.J., Liu, W.C., Chen Z.S. and Wu J.K. (2006). “Deposition of Graded TiO2 films Featured both
Hydrophobic and Photo-Induced Hydrophilic Properties”, Applied Surface Science . 255, 5829-5838.
Yamagishi, M., Kuriki, S., Song, P.K. and Shigesato, Y. (2003). “Thin film TiO2 photocatalyst deposited by reactive
magnetron sputtering”, Thin Solid Films. 442: 227-231.
Zeman. P., and Takabayashi, S. (2002). “Effect of Total and Oxygen Partial Pressures on Structure of Photocatalytic
TiO2 Films Sputtered on Unheated Substrate,” Surface and Coatings Technology . 153, 93-99.
413
การประชุมวิชาการระดับชาติ มหาวิ ทยาลัยทักษิณ ครั้งที่ 22 ประจำปี 2555